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Se pueden exportar fotolitografías DUV de alta gama con soporte de 7 nm: asml venderá 16.200 millones de yuanes en China este año

Fecha: 2023 / 17 / 03

Se pueden exportar fotolitografías DUV de alta gama con soporte de 7 nm: asml venderá 16.200 millones de yuanes en China este año

 

Esta semana, asml señaló en su último comunicado que estas nuevas medidas de control de exportaciones se centran en tecnologías avanzadas de fabricación de chips, incluidos equipos de depósito de última generación y sistemas de litografía sumergida.

Asml destacó que las nuevas medidas de control de exportaciones no están dirigidas a todos los sistemas de litografía sumergida, sino solo a los llamados sistemas de impresión sumergida "más avanzados". Hasta la fecha, la compañía no ha recibido información sobre la definición exacta de "lo más avanzado", que interpreta como un "sistema de litografía de inmersión crítica" definido en la reunión del día del mercado de capitales, es decir, twinscanext: 2000i y el posterior sistema de litografía de inmersión.

La llamada fotolitografía sumergida pertenece a la fotolitografía de 193 nm (fuente de luz) (dividida en seco y sumergida), que se puede utilizar para fabricar chips de proceso avanzado de 16 nm a 7 nm, pero también se utiliza ampliamente en industrias de 45 nm y menos. En el proceso de maduración.

La información del sitio web oficial de asml muestra que los principales productos de litografía DUV de la compañía tienen tres tipos de dispositivos: twinscan nxt: 1980di, twinscan en zhitong: 2000i y twinscan en zhitong: 2050i, de los cuales 2000i y 2050i son los productos mencionados en el comunicado de la compañía.

En la presentación de este twinscan nxt: 1980di en el sitio web oficial de asml, en términos de resolución, se lee que es mayor o igual a 38 nm (puede soportar hasta unos 7 nm), lo que se refiere a la resolución de una exposición. De hecho, la fotolitografía se puede exponer muchas veces.

En teoría, nxt: 1980di todavía puede alcanzar los 7 nm, pero los pasos son más complejos, los costos son más altos y el rendimiento también puede perderse. La mayoría de las fotolitografías utilizadas en las fábricas de obleas producen chips con procesos de 14 nm o más. Reducir la producción de procesos por debajo de 14 nm debido a los bajos rendimientos, los altos costos y la falta de competitividad.

Asml señaló que los sistemas de litografía sumergida relativamente bajos y avanzados han sido capaces de satisfacer bien las necesidades de los clientes de procesos maduros, y dijo que las perspectivas a largo plazo de la compañía se basan en la demanda global a largo plazo y las tendencias tecnológicas, no en regiones específicas. Expectativas. El sistema de litografía EUV de asml está restringido desde 2019.

Asml espera que las ventas en China se mantengan en unos 2.200 millones de euros (unos 16.200 millones de yuanes) en 2023 y está acelerando la expansión de su negocio y ventas en china.


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